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dc.rights.licensehttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0es_MX
dc.creatorNIKOLAI KORNEEV ZABELLOes_MX
dc.date2014-03-10-
dc.date.accessioned2019-06-20T04:47:11Z-
dc.date.available2019-06-20T04:47:11Z-
dc.date.issued2014-03-10-
dc.identifier.urihttp://repositorio.ugto.mx/handle/20.500.12059/905-
dc.description.abstractInvestigamos los patrones ópticos transversales producidos cuando se contrapropagan dos ondas a través de una celda de vapor de rubidio en presencia de un campo magnético longitudinal. El proceso de conmutación óptica entre dos de estos estados se realiza utilizando tres mecanismos: interrupción mecánica de uno de los haces, modulación en intensidad del haz de bombeo y modulación en intensidad de un haz adicional. El proceso de conmutación alcanzado tiene una duración menor a 10 μs y puede ser realizado con potencias de 2 μw.es_MX
dc.formatapplication/pdf-
dc.language.isoengen
dc.publisherUniversidad de Guanajuatoes_MX
dc.relationhttp://www.actauniversitaria.ugto.mx/index.php/acta/article/view/556-
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccesses_MX
dc.sourceActa Universitaria. Multidisciplinary Scientific Journal. Vol 23 (2013)-
dc.sourceISSN: 2007-9621-
dc.titlePattern based optical memory in rubidium vaporen
dc.title.alternativeMemoria óptica basada en patrones de vapor de rubidioes_MX
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articlees_MX
dc.creator.idinfo:eu-repo/dai/mx/cvu/15283es_MX
dc.subject.ctiinfo:eu-repo/classification/cti/1es_MX
dc.subject.keywordsVapor de rubidioes_MX
dc.subject.keywordsPatrones ópticos transversaleses_MX
dc.subject.keywordsRubidium vaporen
dc.subject.keywordsTransverse optical patternen
dc.type.versioninfo:eu-repo/semantics/publishedVersiones_MX
dc.creator.twoYaneth Marcela Torres Garcíaes_MX
dc.creator.idtwoinfo:eu-repo/dai/mx/cvu/424081-
dc.description.abstractEnglishWe investigated the optical transverse pattern produced by counterpropagating two waves through a rubidium vapor cell in presence of a longitudinal magnetic field. A bistable behavior is observed. The optical switching process between two of these patterns is carried out using three different mechanisms: mechanical closing of a pump beam, modulation of a pump beam intensity and modulation of additional beam intensity. A rapid switching of less than 10 μs between patterns can be carried out with a 2 μw power beam.en
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