Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:
http://repositorio.ugto.mx/handle/20.500.12059/3271
Título: | Formación de un molde de polisiloxano, para la impresión de superficies texturizadas de TIO2: efecto del nivel de vacío durante el procesamiento |
Autor: | Sergio Zaragoza Ramírez |
Resumen: | En este trabajo se obtuvieron moldes de polisiloxanoa diferentes niveles de vacío, usando como patrón la superficie cuasi-aleatoria de discos DVD. El polisiloxano fue obtenido a partir de una reacción de entrecruzamiento entre un oligómero de siloxano y un agente de curado. Estos precursores se mezclaron bajo condiciones atmosféricas y luego la reacción de entrecruzamiento se llevó a cabo a diferentes niveles de vacío, en el rango de 210 mm de Hg hasta presión atmosférica; con la finalidad de observar el efecto de la presión sobre la calidad de los moldes. Posteriormente, estos moldes se aprovecharon para la impresión de superficies texturizadas de anatasa-TiO2sobre una película delgada de una suspensión coloidal de este material. Los moldes obtenidos, independientemente del nivel de vacío, presentaron como defecto burbujas; las cuales se imprimieron en la superficie de anatasa-TiO2. Todas las superficies fueron analizadas mediante técnicas de microscopía. Finalmente, la superficie cuasi-aleatorias de TiO2 pueden ser de gran importancia ya que sirve para incrementar la absorción de luz y en consecuencia aumentar la eficiencia de celdas solares sensibilizadas con colorantes |
Fecha de publicación: | 2017 |
Editorial: | Universidad de Guanajuato |
Licencia: | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 |
URI: | http://repositorio.ugto.mx/handle/20.500.12059/3271 |
Idioma: | spa |
Aparece en las colecciones: | Revista Jóvenes en la Ciencia |
Archivos en este ítem:
Archivo | Descripción | Tamaño | Formato | |
---|---|---|---|---|
Formación de un molde de polisiloxano, para la impresión de superficies texturizadas de tio2 efecto del nivel de vacío durante el procesamiento.pdf | 1.24 MB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |
Los ítems de DSpace están protegidos por copyright, con todos los derechos reservados, a menos que se indique lo contrario.